In-situ spectroscopic ellipsometry of microcrystalline silicon deposited by plasma-enhanced chemical vapor deposition on flexible Fe–Ni alloy substrate for photovoltaic applications - École polytechnique Accéder directement au contenu
Article Dans Une Revue Thin Solid Films Année : 2014

In-situ spectroscopic ellipsometry of microcrystalline silicon deposited by plasma-enhanced chemical vapor deposition on flexible Fe–Ni alloy substrate for photovoltaic applications

Domaines

Physique [physics] Science des matériaux [cond-mat.mtrl-sci]

Martin Foldyna  : Connectez-vous pour contacter le contributeur

https://polytechnique.hal.science/hal-01230105

Soumis le : mardi 17 novembre 2015-17:45:04

Dernière modification le : vendredi 16 juin 2023-17:18:07

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Dates et versions

hal-01230105 , version 1 (17-11-2015)

Identifiants

Citer

Z. Mrázková, A. Torres-Rios, R. Ruggeri, M. Foldyna, K. Postava, et al.. In-situ spectroscopic ellipsometry of microcrystalline silicon deposited by plasma-enhanced chemical vapor deposition on flexible Fe–Ni alloy substrate for photovoltaic applications. Thin Solid Films, 2014, 571, ⟨10.1016/j.tsf.2014.06.009⟩. ⟨hal-01230105⟩

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