Etching of a-Si:H thin films by hydrogen plasma: A view from in situ spectroscopic ellipsometry

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Journal of Chemical Physics, American Institute of Physics, 2014, 141 (8), 〈10.1063/1.4893558〉
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Contributeur : Pere Roca I Cabarrocas <>
Soumis le : mercredi 18 novembre 2015 - 19:49:39
Dernière modification le : mardi 5 juin 2018 - 10:14:20

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Aomar Hadjadj, Fadila Larbi, Mickaël Gilliot, Pere Roca I Cabarrocas. Etching of a-Si:H thin films by hydrogen plasma: A view from in situ spectroscopic ellipsometry. Journal of Chemical Physics, American Institute of Physics, 2014, 141 (8), 〈10.1063/1.4893558〉. 〈hal-01230706〉

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