 |
École polytechnique Open archive |  |
 |
Journal articles
Etching of a-Si:H thin films by hydrogen plasma: A view from in situ spectroscopic ellipsometry
1
LISM - Laboratoire d'Ingéniérie et Science des Matériaux - EA 4695 (Université de Reims Champagne-Ardenne
UFR Sciences Exactes et Naturelles
Campus Moulin de la Housse
BP 1039
51687 REIMS CEDEX 2 - France)
- URCA - Université de Reims Champagne-Ardenne : EA 4695 (2 avenue Robert Schuman, 51100 Reims. - France)
- SFR Condorcet (France)
- URCA - Université de Reims Champagne-Ardenne : CNRS 3417 (2 avenue Robert Schuman, 51100 Reims. - France)
- UPJV - Université de Picardie Jules Verne : CNRS 3417 (Chemin du Thil - 80000 Amiens - France)
- CNRS - Centre National de la Recherche Scientifique : CNRS 3417 (France)
2
APC (UMR_7164) - AstroParticule et Cosmologie (APC - UMR 7164, Université Paris Diderot, 10 rue Alice Domon et Léonie Duquet, case postale 7020, F-75205 Paris Cedex 13 - France)
- Observatoire de Paris (61 Av de l'Observatoire 75014 PARIS - France)
- PSL - Université Paris sciences et lettres (60 rue Mazarine 75006 Paris - France)
- CEA - Commissariat à l'énergie atomique et aux énergies alternatives : DRF/IRFU (Centre de Saclay Centre de Grenoble Centre de Cadarache etc - France)
- UPD7 - Université Paris Diderot - Paris 7 : UMR_7164 (5 rue Thomas-Mann - 75205 Paris cedex 13 - France)
- CNRS - Centre National de la Recherche Scientifique : UMR_7164 (France)
- IN2P3 - Institut National de Physique Nucléaire et de Physique des Particules du CNRS (France)
3
LPICM - Laboratoire de physique des interfaces et des couches minces [Palaiseau] (bat. 408 Route de Saclay 91128 PALAISEAU CEDEX - France)
- X - École polytechnique (École polytechnique, 91128 Palaiseau Cedex - France)
- CNRS - Centre National de la Recherche Scientifique : UMR7647 (France)
Document type :
Journal articles
Domain :
Complete list of metadata
https://hal-polytechnique.archives-ouvertes.fr/hal-01230706
Contributor : Pere Roca I Cabarrocas <>
Submitted on : Wednesday, November 18, 2015 - 7:49:39 PM
Last modification on : Saturday, June 19, 2021 - 3:15:58 AM
Contributor : Pere Roca I Cabarrocas <>
Submitted on : Wednesday, November 18, 2015 - 7:49:39 PM
Last modification on : Saturday, June 19, 2021 - 3:15:58 AM
Identifiers
- HAL Id : hal-01230706, version 1
- DOI : 10.1063/1.4893558
Collections
X | CNRS | OBSPM | X-PICM | LPICM | IN2P3 | CEA | IRFU-APC | DSM-IRFU | CEA-DRF | X-DEP-PHYS | UNIV-PARIS7 | USPC | LISM | URCA | UNIV-PARIS | UP-SCIENCES | PSL | APC
Citation
Aomar Hadjadj, Fadila Larbi, Mickaël Gilliot, Pere Roca I Cabarrocas. Etching of a-Si:H thin films by hydrogen plasma: A view from in situ spectroscopic ellipsometry. Journal of Chemical Physics, American Institute of Physics, 2014, 141 (8), ⟨10.1063/1.4893558⟩. ⟨hal-01230706⟩
Metrics
Record views