Etching of a-Si:H thin films by hydrogen plasma: A view from in situ spectroscopic ellipsometry

Aomar Hadjadj; Fadila Larbi; Mickaël Gilliot; Pere Roca I Cabarrocas

doi:10.1063/1.4893558

Etching of a-Si:H thin films by hydrogen plasma: A view from in situ spectroscopic ellipsometry

Aomar Hadjadj ¹ Fadila Larbi Mickaël Gilliot ² Pere Roca I Cabarrocas ³

1 CORIA - Complexe de recherche interprofessionnel en aérothermochimie

2 APC - UMR 7164 - AstroParticule et Cosmologie

3 LPICM - Laboratoire de physique des interfaces et des couches minces [Palaiseau]

Type de document :

Article dans une revue

Journal of Chemical Physics, American Institute of Physics, 2014, 141 (8), 〈10.1063/1.4893558〉

Domaine :

Physique [physics]

Liste complète des métadonnées

https://hal-polytechnique.archives-ouvertes.fr/hal-01230706
Contributeur : Pere Roca I Cabarrocas <>
Soumis le : mercredi 18 novembre 2015 - 19:49:39
Dernière modification le : samedi 27 octobre 2018 - 01:19:39

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