In-situ spectroscopic ellipsometry of microcrystalline silicon deposited by plasma-enhanced chemical vapor deposition on flexible Fe–Ni alloy substrate for photovoltaic applications

Z. Mrázková A. Torres-Rios R. Ruggeri 1 M. Foldyna 2 K. Postava 3 J. Pištora 3 P. Roca I Cabarrocas 2
1 IMM - Institute for Microelectronics and Microsystems/ Istituto per la Microelettronica e Microsistemi
2 LPICM - Laboratoire de physique des interfaces et des couches minces [Palaiseau]
3 Department of Physics and Nanotechnology Centre
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Article dans une revue
Thin Solid Films, Elsevier, 2014, 571, 〈10.1016/j.tsf.2014.06.009〉
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Contributeur : Martin Foldyna <>
Soumis le : mardi 17 novembre 2015 - 17:45:04
Dernière modification le : jeudi 10 mai 2018 - 02:00:44

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Z. Mrázková, A. Torres-Rios, R. Ruggeri, M. Foldyna, K. Postava, et al.. In-situ spectroscopic ellipsometry of microcrystalline silicon deposited by plasma-enhanced chemical vapor deposition on flexible Fe–Ni alloy substrate for photovoltaic applications. Thin Solid Films, Elsevier, 2014, 571, 〈10.1016/j.tsf.2014.06.009〉. 〈hal-01230105〉

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