In-situ spectroscopic ellipsometry of microcrystalline silicon deposited by plasma-enhanced chemical vapor deposition on flexible Fe–Ni alloy substrate for photovoltaic applications

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Thin Solid Films, Elsevier, 2014, 571, 〈10.1016/j.tsf.2014.06.009〉
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Contributeur : Martin Foldyna <>
Soumis le : mardi 17 novembre 2015 - 17:45:04
Dernière modification le : jeudi 7 février 2019 - 16:28:43

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Z. Mrázková, A. Torres-Rios, R. Ruggeri, M. Foldyna, K. Postava, et al.. In-situ spectroscopic ellipsometry of microcrystalline silicon deposited by plasma-enhanced chemical vapor deposition on flexible Fe–Ni alloy substrate for photovoltaic applications. Thin Solid Films, Elsevier, 2014, 571, 〈10.1016/j.tsf.2014.06.009〉. 〈hal-01230105〉

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